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Dev & Open Source||5 sources

ASML atteint 1 000 watts pour sa source lumineuse EUV et promet 50 % de puces en plus d'ici 2030

ASML a boosté sa source EUV à 1 000 watts, promettant 50 % de puces en plus d’ici 2030 grâce à une cadence accrue de 220 à 330 wafers/heure. L’annonce à San Diego consolide son monopole face aux rivaux américains et chinois.
ASML Holding a dévoilé à San Diego, en Californie, une avancée majeure dans sa technologie de lithographie par ultraviolet extrême (EUV), le procédé optique essentiel pour graver les circuits des puces les plus avancées. Des chercheurs de l’entreprise néerlandaise ont porté la puissance de la source lumineuse à 1 000 watts, contre 600 watts auparavant, lors d’une démonstration dans des conditions opérationnelles équivalentes à celles d’une usine cliente. « Ce n’est pas un tour de passe-passe où nous démontrons un fonctionnement sur un temps très court. C’est un système capable de produire 1 000 watts avec les mêmes exigences de fiabilité qu’un client pourrait attendre », a déclaré Michael Purvis, technologue en chef de la source lumineuse EUV chez ASML. Cette percée renforce la position dominante d’ASML, seul fabricant mondial de machines EUV commerciales utilisées par des fondeurs comme Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) et Intel pour produire des puces informatiques de pointe nécessaires aux serveurs d’intelligence artificielle et aux processeurs haut de gamme. Alors que les États-Unis et la Chine développent leurs propres technologies pour rivaliser, cette innovation permet à ASML de maintenir son avance technologique face aux tensions géopolitiques et aux restrictions d’exportation. Le procédé EUV repose sur l’impact d’un laser à haute puissance sur des gouttelettes d’étain fondu, générant un plasma plus chaud que la surface du Soleil. L’augmentation de puissance réduit le temps d’exposition des tranches de silicium (wafers), portant la cadence de production des machines de la gamme NXE de 220 wafers par heure à 330 d’ici la fin de la décennie. Cela pourrait accroître la production mondiale de puces de 50 %, abaissant les coûts unitaires pour les clients. ASML entrevoit une progression vers 1 500 watts, voire 2 000 watts, sans obstacles fondamentaux. D’ici 2030, cette technologie pourrait transformer la capacité industrielle mondiale, aidant à répondre à la demande explosive en semi-conducteurs.

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Cet article a été enrichi avec du contexte additionnel provenant des connaissances de l'IA (historique, comparaisons, données techniques). Les sources éditoriales restent la base factuelle.

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